根據(jù)氣體標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)第四屆工作規(guī)劃綱要和氣體標(biāo)準(zhǔn)化工作需要，為了強(qiáng)化氣體標(biāo)準(zhǔn)制修訂的科學(xué)性、實(shí)用性，加快標(biāo)準(zhǔn)制修訂速度，提高標(biāo)準(zhǔn)質(zhì)量水平，經(jīng)“2011年氣體標(biāo)準(zhǔn)化工作組會(huì)議”（以下簡稱“工作組會(huì)議”）審議決定：氣體標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)、半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)氣體分會(huì)、氣體標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)分析分會(huì)、標(biāo)準(zhǔn)樣品技術(shù)委員會(huì)氣體標(biāo)樣工作組正式成立第四屆“氣體標(biāo)準(zhǔn)化試驗(yàn)研究與驗(yàn)證—色譜平臺(tái)”（以下簡稱“色譜平臺(tái)”）。